在半导体制造工艺中，压缩空气已超越普通动力源角色，成为直接影响产品良率与生产线稳定性的关键工艺气体。极细微的水分、油分或颗粒物残留，都可能导致晶圆污染、部件氧化或设备故障，尤其在高价值的碳化硅部件生产中，压缩空气的品质直接关系到产品最终性能的优劣。

项目背景

作为国内硅及碳化硅部件产业的新兴力量，某企业为满足前瞻性产能布局，新建工厂配置了 1 台 48m³/min 螺杆空压机，并亟待一套高性能净化系统，旨在获得完全适配于核心产线的极净压缩空气，同时满足卓越的节能效益与长期运行稳定性。

半导体硅及碳化硅部件生产对压缩空气品质提出了极为严苛的品质要求，需满足压力露点≤-70℃，0.1~0.5um颗粒含量≤20000个，含油量≤0.01mg/m³。

贝克欧科技解决方案

该项目面临多家国际品牌的竞争压力，客户对压缩空气品质与设备能耗表现均提出了极高要求。

贝克欧科技凭借EVERDRY^® 零气耗吸附式干燥器的卓越性能，在众多方案中脱颖而出，不仅确保在运行过程中彻底杜绝压缩空气再生损耗，还能在确保露点持续稳定的同时显著降低系统能耗，助力客户同步实现能耗与品质的双重优化。

贝克欧科技深谙不同行业乃至不同产线对压缩空气的独特需求。因此，我们提供的不仅是标准化产品，更是定制化的系统解决方案。从前置的高效气水分离到后端的多级精密过滤，均可根据客户的具体气源条件、空间布局与品质期望进行灵活配置与优化组合，确保每一套系统都能精准适配其应用场景。

基于该企业对工艺可靠性和现场安装条件的实际需求，以及对于压缩空气品质的追求，贝克欧科技技术团队也同样提供了完整的净化系统解决方案：

l 不锈钢预冷却器

l CLEARPOINT^® W气水分离器

l F级精密过滤器

l EVERDRY^® 零气耗鼓风加热再生吸附式干燥器

l RF级精密 & RS级超精密除尘过滤器

基于该企业所在地的气候特点与车间环境要求，技术团队为其选用了EVERDRY^® D系列中的DRL型号。该型号采用鼓风加热再生结合密闭循环冷却技术，从根本上杜绝了成品气反吹造成的损耗，确保了真正的“零气耗”运行。

除此之外，EVERDRY^® D 系列干燥器更具备以下技术优势：

1．零气耗再生，从源头降本

D系列的鼓风加热再生技术不仅直接降低了空压机的负载与能耗，更避免了因干燥器耗气而导致的空压机选型被迫放大所带来的额外初始投资与运行电费，具备极大的节能潜力。

2．超长吸附时间，降低运行功耗

满载工况下，D系列干燥器单塔设计吸附时间为6小时，相比其他品牌干燥器单塔吸附时间为4小时，D系列干燥器从而具备更显著的运行优势，例如更长的吸附剂使用寿命、更稳定的压力露点、更高的可靠性以及更低的运行功耗，而在露点控制模式下，设备单塔吸附时间更可达96小时。

露点控制模式：单塔吸附时间最长可达96小时

3．超低压损设计，秉持节能理念

D系列通过采用全通径气动碟阀、优化的流道设计与大口径管路，将系统平均压损控制在≤0.11bar的极低水平。对比市面上的同类产品，D系列能有效维持系统压力，为前端空压机降低背压，实现系统性的持续节能。 

EVERDRY^®系列干燥器提供高度定制化的解决方案，能精准契合不同用户的压缩空气处理需求，达成全寿命周期运行成本最低，从而实现立竿见影的节能回报与长期成本优化，目前该系列产品已在石化、钢铁、电子、汽车等多个关键行业中得到广泛应用与验证。

方案成效

项目验收阶段，经第三方严格测试，系统出口压缩空气的各项指标——包括压力露点、颗粒物含量与含油量——均优于客户要求，完全满足硅及碳化硅部件的未来长期生产需求。

贝克欧科技以领先的干燥技术与完整的系统净化能力，为高标准生产提供了坚实保障，针对硅基、碳化硅、半导体芯片制造等场景的特殊需求，迭代优化压缩空气净化技术。未来，贝克欧将继续致力于创新节能技术的研发与应用，为更多行业客户提供高效、可靠的压缩空气系统解决方案。